Kuai Technology在6月2日取消了该问题。我们说，如果没有EUV光刻机器，就可以完成5nm。几个小时前，全球5nm的“特别”新闻。该5NM采用了完全不同的技术路线，避免了EUV光刻引擎的希望，并采用了逐步的阶级光刻机器，通过许多曝光来实现5nm的线路宽度。然后，如果没有EUV光刻机器，是否有3NM的机会？最新报告指出，这个5NM品牌仍计划使用3NM技术流程启动AP（应用程序处理器），目的是在2025年推出。芯片使用全方位（GAA）技术来有效地降低当前泄漏并提高性能。这是TSMCAND三星在高级流程中采用的基本技术。但是，该计划面临着重要的挑战。市场通常会在谈论这是否可以做到。以前，他们使用深层紫外线（DUV）曝光机使用许多曝光来实现MAS5 NM过程的生产。市场认为，在3NM仪表过程中可以采用类似的方法。但是，与EUV相比，使用DUV的多种暴露方式显着增加了过程步骤，这不可避免地导致产量和生产力降低。因此，将来的主要问题将取决于您是否可以处理EUV光刻机器。 [本文的结尾]如果您需要打印，请确保指示来源：Kuai技术编辑：Chaohui
